第四代的ArF光刻机，与第三代KrF原理一样，但光源升级，采用193nm光源的光刻机，这两种称之为DUV光刻机，也叫做DUV光刻机。 而第五代叫做ArFi，前面三个字母相同，因为采用的也 …

（2） ArF、KrF光刻胶. 到了90年代末，半导体制程工艺发展到350mm以下，g线和i线光刻胶已经无法满足这样的需求了，于是出现了适用于248nm波长光源的KrF光刻胶和193nm波长光源的ArF光刻胶。它们都属于深紫外光刻胶，和g线、i线有质的区别。

2024年3月1日 · TECHCET 数据显示，2020 年 ArF 和 ArFi（ArF 浸没式光刻胶）占据约 48% 的全球半导体光刻胶市场份额，位列第一，KrF 光刻胶市占率 34%，排名第二，G/I 线胶以 16% 的市占率位列第三。

2022年3月30日 · 例如KrF 准分子激光（248 nm）、 ArF 准分子激光 （193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。 曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。 按照光源类型划分，光刻机不仅有极紫外光刻机（EUV），还有ArF浸没式光刻机、ArF干式光刻机、KrF光刻机、i-line设备等。 其中，ArF浸没式、ArF干式和KrF都属于深紫外线光刻机（DUV），EUV是目前最先进的光刻机，但DUV其实是当前半导体制造的主 …

2024年11月15日 · ArF（氟化氩干式光刻机）和ArFi（浸润式光刻机）的主要区别在于光源波长和是否使用浸没系统。 光源波长ARF：使用氟化氩（ArF）作为光源，波长为193纳米。

248 nm KrF准分子激光是最早引入光刻的准分子光源，主要应用于180 nm~100 nm工艺。后续193 nm ArF准分子激光广泛应用于90 nm及以下节点半导体量产。通过浸没式技术、双图形技术、多图形等先进技术，193 nm ArF准分子激光可应用于光刻10 nm节点量产。 图5 半导体光刻机

krF光刻胶与ArF光刻胶都主要用于半导体领域，二者最大区别是光刻胶的光源波长不同，其中krf波长为248nm，arf波长为193nm，arf光刻胶的分辨率更好，技术含量更高。arf和krf都属于深紫外光范畴，也都是duv光刻机应用光源，但是光源技术上相差一代。

光刻胶，知识点普及，ArF、KrF应该怎么读，为什么会作为区分光刻胶类型的代号？, 视频播放量 10360、弹幕量 9、点赞数 146、投硬币枚数 36、收藏人数 212、转发人数 78, 视频作者 硬科技新势力, 作者简介 硬科技&投资，相关视频：光刻胶为什么这么难？

2024年9月15日 · 两款光刻机分别是氟化氪（KrF）光刻机和氟化氩（ArF）光刻机。 在A股市场上，与光刻机相关的产业链公司包括： 1. 上海微电子装备(集团)股份有限公司（SMEE）：是国内光刻机领域的重点企业，拥有SSX600系列光刻机，代表了国内顶尖水平，技术节点为90nm。

Fkr Arf is on Facebook. Join Facebook to connect with Fkr Arf and others you may know. Facebook gives people the power to share and makes the world more open and connected.