Extreme ultraviolet lithography - Wikipedia
Extreme ultraviolet lithography (EUVL, also known simply as EUV) is a technology used in the semiconductor industry for manufacturing integrated circuits (ICs). It is a type of …
China Develops Domestic EUV Tool, ASML Monopoly in Trouble
2025年3月8日 · However, commercializing an alternative EUV lithography tool will challenge ASML's position. ASML's latest High-NA EUV tool costs around 380 million US Dollars. No …
米マイクロン日本法人代表「広島でHBM生産」、EUVは26年から
2024年8月19日 · 半導体メモリー大手の米Micron Technology（マイクロン・テクノロジー）は広島工場（広島県東広島市）で、生成AI（人工知能）向けで需要が急増するHBM（広帯域メモ …
ASML Holding: More HBM Equals More EUV - Seeking Alpha
2024年3月27日 · The growing demand for high-bandwidth memory (HBM) in AI computing presents significant growth opportunities for ASML, as major suppliers like Samsung, SK …
中国能生产HBM内存吗？ - 知乎
国内的hbm应该快了，hbm本质是一种先进封装，其技术壁垒没有那么高。 有种说法是hbm3需要1β制程，1β制程需要euv，所以国内干不出来。 但我查了半天，sk海力士和三星都没说过这个 …
EUV光刻，新变革 - 虎嗅网
2025年3月10日 · ASML的Twinscan EXE高NA EUV光刻工具只需一次曝光即可实现低至8nm的分辨率，与单次曝光即可提供13.5nm分辨率的低NA EUV系统相比，这是一个显着的改进。虽然 …
EUV光刻机争夺战，风云突变 - 虎嗅网
2024年11月19日 · 早在2023年12月，英特尔就拿下了全球首台High NA EUV光刻机，并于今年4月宣布其已在位于美国俄勒冈州希尔斯伯勒的Fab D1X研发晶圆厂完成世界首台商用High-NA …
头部存储企业EUV DRAM将于2025年投产 - 百家号
2024年10月26日 · 认识到EUV技术对于提高存储芯片性能和密度的重要性，美光已决定推迟在1α和1β节点的采用，选择优先考虑性能和成本效益。 Donghui Lu强调了EUV设备的高成本和 …
光刻机巨头 ASML 扩产 EUV 与 DUV 设备，如何从商业角度解读此 …
据悉ASML已悄悄转变态度，近期表示将DUV光刻机产能增加至600台，EUV光刻机增加至90台，在全球芯片行业衰退减少采购光刻机的时候，它如此做瞄准的无疑是当下仅剩的还有意扩张 …
High-NA EUV通过增大数值孔径来改善分辨率 - 行业研究数据 - 小 …
2024年10月10日 · High-NA EUV 光刻能够实现 8nm 的分辨率，对比现有 EUV 单次曝光实现的 12~13nm 分辨率，可将晶体管尺寸缩小约至 1.7 分之 1，晶体管密度增加近三倍，大大提升芯 …
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