The HPR-30 Series systems specialise in rapid and highly sensitive analysis of gases and vapors in vacuum processes. They are integral for tasks like leak detection, monitoring for contamination, analyzing process trends, and evaluating high mass species and precursors, particularly in applications such as ALD and MOCVD.

HPR-30 vacuum process gas analyser • The re-entrant orifice provides for fast response, high sensitivity sampling • A special high conductance sampling path provides for residual gas analysis when the chamber is at less than 10-3 mbar, or at base vacuum • The re-entrant orifice is custom designed for special

For fast, precise and reliable monitoring of thin film and semiconductor processes, the HPR-30 - a compact, on-line, fully automatic process gas analysis system - brings together an extensive range of quadrupole mass spectrometers, differential pumping systems and inlet configurations, each designed to satisfy the specific requirements of indivi...

HPR-30真空过程气体分析系统 (Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。 The HPR-30 is a residual gas analyser configured for analysis of gases and vapours in vacuum processes and for vacuum diagnostics.

用于真空工艺分析的残余气体分析系统 HPR-30系列是残余气体分析系统，配置用于分析真空过程中的气体和蒸汽，并用于真空诊断，具有从高真空到大气压的采样能力。 该系统可完全配置用于个别过程应用，如CVD、ALD、等离子刻蚀、MOCVD、过程气体纯度和过程中污染物监测。 等离子体表征 冷冻干燥 CVD / MOCVD / ALD 真空处理 残余气体分析 近大气层XPS，APXPS 薄膜光学涂层 HPR-30系列系统设计用于对真空工艺中的气体和蒸汽种类进行快速响应的高灵敏度分析。 …

HPR-30真空过程气体分析系统 (Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。 · 连续取样从10 -4 mbar至1mbar. 对过程气体的分析准确，为工业生产过程的控制和优化提供了数据支持。 仪器的响应速度快，能够及时反馈气体成分变化。 仪器运行稳定，故障率低。 过程气体分析准确。 对过程气体的分析准确快速。 Hiden HPR30 质谱仪对过程气体的分析非常专业，数据准确，为我们的生产过程优化提供了依据。 HidenHPR30过程气体分析 …

HPR-30真空过程气体分析系统适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中气体组成及变化，广泛应用于CVD、PECVD、RIE、LPCVD、MOCVD等领域。 该设备具有简洁的设计，高灵敏度（最优可至5ppb）和稳定性（24小时峰高变化小于±0.5%），并可通过MASsoft软件进行控制，实现自动、同时的数据获取与分析。 HPR-30真空过程气体分析系统 (Process Gas Analyser)，适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。 · 连续取样从10 -4 mbar至1mbar. 过程 …

HPR-30过程气体分析仪（Process Gas Analyser），适用于监测分析残余气体和真空过程。可检测反应室内存在的所有成分，以及系统析出的新组分。

The HPR-30 is a residual gas analyser that is designed to test gases and vapours for vacuum diagnostics and in vacuum processes. The system can be modified for individual process applications such as plasma etching, MOCVD, CVD, in-process contaminant monitoring and process gas purity.

简要描述： HPR-30过程气体分析仪（Process Gas Analyser），适用于监测分析残余气体和真空过程。可检测反应室内存在的所有成分，以及系统析出的新组分。