Photoelectron Spectroscopy (XPS) scans on two spin-coated HSQ thin films on Si substrates to demonstrate the effect of thermal annealing. The XPS spectra High Performance Resistance...

A nanometer-scale grating structure with a 60-nm-wide gap and 200-nm-wide ridge has been successfully demonstrated on a silicon-on-insulator substrate by using a 220-nm-thick hydrogen silsesquioxane (HSQ) negative tone electron beam resist.

2003年10月1日 · In this study, nanoporous silica films were prepared from the poly (hydrogen silsesquioxane) (HSSQ) and a templating agent. Three different kinds of the HSSQ with different molecular weight and Si-OH end group content were prepared through the variation of the water/triethoxysilane ratio or pH.

氢倍半硅氧烷 (HSQ) 是用于高分辨率电子束光刻的主要抗蚀剂之一。 例如，在超薄 HSQ 中报告了间距为 12 nm 的线条和空间。 然而，为了在功能器件中利用这种 HSQ 能力，光刻胶中定义的图案必须通过蚀刻或材料沉积转移到底层基板上。 HSQ 的常用去除剂是氢氟酸 (HF)，它并不适用于所有基材。 为了避免使用 HF 作为去除剂，不同的团队开发了双层抗蚀剂系统，将 HSQ 的高分辨率能力与用有机溶剂去除抗蚀剂的可能性相结合。 本文对铬、酚醛清漆树脂和聚甲基丙烯酸甲 …

Hydrogen silsesquioxane (s) (HSQ, H-SiOx, THn, H-resin) are inorganic compounds with the empirical formula [HSiO 3/2] n.

In this study, nanoporous silica films were prepared from the poly(hydrogen silsesquioxane)(HSSQ) and a templating agent. Three different kinds of the HSSQ with different molecular weight and Si-OH end group content were prepared through the variation of the water/ triethoxysilane ratio or pH.

氢倍半硅氧烷 (HSQ) 是一种用于电子束光刻和亚 5 纳米半间距图案的出色负性抗蚀剂，可以使用高对比度显影工艺实现。 然而，HSQ在不同类型基板上的附着质量各不相同，从而限制了HSQ在蚀刻掩模或各种基板上的金属剥离工艺中的作用。 在这项研究中，我们提出了几种化学改性方法来改善 HSQ 在 Si、Cr、Cu、Mo、Au 和氧化铟锡 (ITO) 基板上的粘附抗蚀剂。 通过使用（3-巯基丙基）三甲氧基硅烷（MPTMS）和聚（二烯丙基二甲基铵）氯化物（PDDA）改性，HSQ 在 …

xps 元素参照表 用于 XPS 的 Thermo Scientific™Avantage™ 数据系统的一个重要特征是拥有庞大的知识库，能提供 XPS 分析和元素表征相关的信息。 此处按元素周期表排列，给出了知识基础库。

2023年4月19日 · The spectroscopic analysis of isolated humic acid through scanning electron microscopy (SEM), energy-dispersive X-ray (EDX), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and Fourier transform infrared spectroscopy (FTIR) significantly indicates the existence of identical elements in the recovered humic acid.

HSQ (Hydrogen Silsesquioxane Polymers) 是⼀种半导体级纯度的氢倍半硅氧烷聚合物。 作为半导体⾏业的⼀种重要材料应⽤于超⾼分辨EUV光刻、电⼦束光刻，以及作为旋涂玻璃层（SOG）应⽤于半导体⾏芯⽚表⾯平坦化层和介电层以及中间层等。 为了满⾜各位⽼师对⾼品质电⼦束光刻胶的需求，汇德信与加拿⼤ AQ Materials 建⽴深度合作关系，旨在为各位⽼师提供灵活且易于存储的H-SiOx（HSQ）超⾼分辨率电⼦束负胶产品。 AQM开发了⼀种⽅便且通⽤的⽅法来合成电⼦级 …