With High NA EUV, Intel Foundry Opens New Frontier in …
2024年4月18日 · Intel’s TWINSCAN EXE:5000 High NA EUV tool from lithography leader ASML is now going through calibration steps in preparation for production of Intel’s future process …
Press Kit: High NA EUV at Intel
2024年4月18日 · Intel Foundry has received and assembled the industry’s first High Numerical Aperture (High NA) Extreme Ultraviolet (EUV) lithography system. The new tool provides the …
Intel 透露 4nm EUV 工艺进展：每瓦性能提升 20％ ，进展良好， …
EUV 光刻机应该是 Intel 当前量产 Intel 4/3 以及后续更多工艺的一个掣肘。 主要是因为 ASML 作为唯一的 EUV 光刻机供应商，供货水平根本就跟不上。 而 Intel 当前的 EUV 光刻机保有量远远 …
High-NA EUV光刻机入场，究竟有多强？ - 36氪
今年1月，ASML首台High-NA EUV光刻机的主要组件抵达英特尔，随后在3月初，英特尔分享了一段视频，展示了在英特尔位于美国俄勒冈州的 D1X 工厂内，ASML 工程团队安装调试的部分 …
Intel Foundry 高NA EUVでチップ製造の新境地を開拓
2024年4月18日 · 最新情報：Intel Foundryは、米国オレゴン州ヒルズボロにあるインテルの研究開発施設にて、業界初となる商用の高NA極端紫外線（EUV）リソグラフィー・スキャナー …
首台商用High NA EUV光刻机完成组装，将助力Intel 14A工艺开发
2024年4月19日 · 资料显示，ASML的第一代High NA EUV（EXE:5000）的分辨率为 8nm，可以实现比现有EUV光刻机小1.7倍物理特征的微缩，从将单次曝光的晶体管密度提高2.9倍 ...
英特尔已完成第二台High-NA EUV的组装，ASML称新款光刻机有 …
2024年10月12日 · 英特尔的目标是在2026年至2027年之间，让Intel 14A工艺实现量产，外界普遍认为High-NA EUV光刻机将是英特尔重新夺回技术领先地位的关键。 在此之前，英特尔将继 …
Intel has processed 30,000 wafers with High-NA EUV chipmaking …
2025年2月25日 · Intel has started using two leading-edge ASML High-NA Twinscan EXE:5000 EUV lithography tools, the company revealed on Monday at an industry conference, Reuters …
intel用改进的euv工具，intel 3工艺制造了一枚存算力核弹，标志着inteleuv …
2024年10月11日 · intel用改进的euv工具，intel 3工艺制造了一枚存算力核弹，标志着inteleuv运用已经成熟 推广2024年是至强的大年。 先于6月正式发布的至强® 6700E系列开启了全新的、 …
[News] Intel Claims High-NA EUV Machines in Production with …
2025年2月25日 · On Monday, the company revealed that the first two high-NA EUV machines from ASML are in production, processing 30,000 wafers in a quarter already, as per Reuters. …