中科院宁波材料所AFM: 氧化铟锡的表面重构增强自组装单分子层 …
本文通过氢氟酸（HF）和后续的紫外臭氧（UVO）处理对商用的ITO表面进行重构处理。 具体而言，首先用调配好的氢氟酸水溶液对ITO表面进行刻蚀，基于典型的酸碱反应，将ITO表面无需 …
Structural and morphological properties of ITO thin films …
2015年10月7日 · The surface morphology of ITO films for different thicknesses was investigated by atomic force microscopy (AFM). All the thin films have a smooth surface morphology (as …
Surface characterization and microstructure of ITO thin films at ...
2007年9月30日 · In this study, the electron beam evaporation method is used to generate an indium tin oxide (ITO) thin film on a glass substrate at room temperature. The surface …
氧化铟锡透明导电电极的刻蚀研究
结果表明,pH值为1.67时,于80 ℃,90 min后ITO薄膜的刻蚀效果最优。通过EDS表征ITO电极元素的变化,用原子力显微镜 (AFM) 观察电极微观形貌的变化。
Multifunctional Indium Tin Oxide Electrode Generated by
2016年11月18日 · In this work, we purpose to investigate the electrochemical reduction of ITO electrode in dry organic solvent. The cathodic polarization of ITO in acetonitrile solution …
AFM and STM studies on In2O3 and ITO thin films deposited by atomic ...
1996年6月1日 · The surface morphology of In 2 O 3 and In 2 O 3:Sn (ITO) thin films deposited by atomic layer epitaxy has been studied by AFM and STM. The effects of film thickness, tin …
A Comprehensive Analysis of ITO:FeCl3 and ITO:AlCl3 Thin
2 天之前 · Figure 6 showcases AFM images of ITO films, as well as ITO films combined with varying ratios of FeCl 3 and aluminum chloride (AlCl 3) at 50, 100, and 150% concentrations. …
采用cspm 4000 型原子力显微镜(afm) 在大气环境下观察样品的表面形貌，扫描模式为轻敲模式，扫描面积为10 μm × 10 μm，从AFM 图 像数据中计算得到样品的表面粗糙度和表面颗粒直径．
膜厚对ITO薄膜表面形貌的影响 - X-MOL
通过原子力显微镜（afm）研究了在室温下通过电子束沉积法在浮法玻璃基板上制备的生长的ito薄膜的动态缩放行为。 AFM数据表明，随着膜厚度从100nm增加到250nm，膜的平均表面粗糙 …
武汉大学闵杰课题组AFM:双溶剂氯化ITO构建高性能无空穴传输层 …
2021年9月21日 · ito-cl(odcb:h2o2)构筑的无空穴传输层光伏器件光电转换效率最高可达到18.60%(中国计量科学研究院认证效率17.94%)。 并且1cm2器件效率为17.84%，非卤溶剂甲 …