KLA/TENCOR 2351是利用激光掃描技術檢測和分類半導體晶片缺陷，以提高產率的一種掩模和晶片檢測系統。 它提供了多種功能,如全場自上而下掃描、600倍或1000倍放大資產,以及用於精確檢測缺陷的高性能缺陷審查模型。

2023年11月2日 · Our expert technicians meticulously restore equipment from leading brands like KLA and Hitachi, applying rigorous testing and quality control measures. Whether you need a single piece refurbished or a fleet of equipment overhauled, we deliver reliable, high-performing solutions that extend the lifespan of your assets while optimizing your budget.

2024年9月23日 · KLA-Tencor 2351 晶圆检测仪 是一种先进的晶圆和掩模检测系统，广泛应用于半导体制造行业。 该系统具备多种功能，包括高分辨率成像、自动化分析以及专门的缺陷检测和过程改进设备 。

2018年4月22日 · 8インチ装置用の明視野検査装置としては、ある意味完成形になっているKLA-Tencor KLA2351の 入荷が決定しましたのでご報告させて頂きます。 この装置は欧州のデバイスメーカーが使用して装置で、弊社のエンジニアが直接欧州まで行き

kla/tencor 2351是一种掩模和晶片检测设备，设计用于检测、分类和量化掩模和晶片上的缺陷。kla 2351利用专有操作系统和高分辨率检查摄像头,可以快速准确地分类缺陷。该单元结合了明暗场成像技术，并利用kla专有专利算法检测掩模和晶片不透明和透明区域的缺陷。

kla/tencor 2351是一种领先的晶圆和掩模检测设备,旨在提供高分辨率的模具结构、层的表面和轮廓测量以及任何制造缺陷的信息。 这套高度先进的系统配备了一系列数字成像、自动化分析以及先进的晶圆表面和掩模检测技术。

The KLA / TENCOR 2351 is a Bright-Field Wafer Inspection System. The TENCOR 2351 can be used with 200mm wafer sizes. In July of 2001, an upgrade to the 2350 was introduced, the 2351, which offers enhancements in sensitivity, throughput and ease of use.

KLA / TENCOR 2351 is a powerful and highly advanced system for inspecting wafers and masks, providing high-resolution imaging, automated analysis, and specialized equipment for defect assurance and process improvement.

KLA / TENCOR 2351 is an automated wafer and mask inspection system designed to improve semiconductor manufacturing quality and reliability, featuring high-resolution imaging, detection of defects down to one micron in size, fast scan speeds, and detailed analysis reports.

KLA/TENCOR 2350是一种高性能、高性价比的掩模和晶片检测设备，能够以亚微米分辨率收集和分析数据，用于快速准确的晶片检测、缺陷检测和质量控制。