KLA's defect inspection and review tools support defect discovery and inline/tool monitoring: 39xx, 29xx, Surfscan, 8 Series, CIRCL, eDR7xxx, Puma. ... The 29xx and 39xx optical broadband plasma wafer defect inspectors provide discovery of critical defects on advanced design node logic and memory devices. With complementary wavelength bands ...

The brightness of the 39xx Series light source is estimated to be 2x brighter than the surface of the sun; Optics KLA 2020 Inspector. Off-the-shelf microscope objectives; Small enough to fit in your shirt pocket; 23xx Series. Custom broadband UV objective; KLA developed the first broadband UV, 0.9 NA microscope objective . This objective was ...

在明场/暗场缺陷检测领域，KLA 同样处于领先地位，其明场缺陷检测设备主要分为 29xx 和39xx 两大系列，29xx 系列最新产品 2950/2955 和 39xx 系列 3920/3925 均可应用于 7nm 及以下节点；国产厂商中，上海精测明场光学缺陷检测设备已取得突破性订单，且已完成首台套交付。

KLA's defect inspection and review tools support defect discovery and inline/tool monitoring: 39xx, 29xx, Surfscan, 8 Series, CIRCL, eDR7xxx, Puma. ... 39xx 系列: 具有超分辨率深紫外（SR-DUV）波段的宽光谱等离子晶圆缺陷检测仪，与29xx系列的检测性能相辅相成，用于发现≤10nm ...

2024年9月25日 · 半导体检测领域的领头羊KLA科磊（简称KLA）的产品线广泛且深入，覆盖了半导体制造和相关电子行业的多个关键环节。KLA的产品线主要包括用于检验、测量、数据分析的系统以及软件等，这些产品广泛应用于IC、晶圆和掩模的研发和制造过程中。 ... eSL10、39xx系列 ...

2020年7月20日 · The combination of the eSL10 with KLA's flagship 39xx ("Gen5") and 29xx ("Gen4") broadband optical wafer defect inspection systems creates a powerful defect discovery and monitoring solution for advanced IC technologies. Together these systems accelerate yield and reliability, finding critical defects faster and enabling quicker resolution of ...

与KLA检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的KLA特定应用的使用，并 通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。 392x、 295x和eDR7380系统都可用作新系统或者对上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系统 进行升级。

2024年6月25日 · The KLA 2020 replaced manual inspection by human operators using microscopes. Known as a brightfield inspector, the KLA 2020 provided fast and accurate feedback on fab processes and was primarily used for automated engineering analysis. ... 2010s: 29xx and 39xx Series. From the 290x to the 296x, the 29xx Series systems have been the inspection ...

2023年5月10日 · 其皆通过对晶圆上的图形进行成像后与相邻图像对比来检测缺陷并记录其位臵坐标。明场光学图形缺陷检测设备的供应商： KLA （39xx系列及29xx系列） 、应用材料 （UVision系列） ，暗场光学图形缺陷检测设备的供应商：KLA （Puma系列） 、Hitachi High-Tech （IS系列） 。

2024年9月3日 · 39xx: 提供晶圆级别的缺陷检测、良率改进以及对于≤7nm设计节点的逻辑及领先内存的在线监测: 29xx: 可在≤7nm设计节点的逻辑和领先内存中发现影响良率的关键缺陷: C205: 可为汽车、物联网、5G和消费者电子市场的芯片制造提供系统性缺陷检测并发现潜在的可靠性 ...