Patterned and unpatterned wafer defect inspection and review systems find, identify and classify particles and pattern defects on the front surface, back surface and edge of the wafer. This …

brightfield inspector ensures maximum sensitivity over a broad range of immersion litho materials and defect types. Immersion lithography is a key enabling technology for 65nm and 45nm …

多设备公司都在忙着缩减计划，并延迟推出新平台，但 KLA-Tencor 仍继续大力投入开发下一 代产品，其中包括针对 3Xnm 和 2Xnm 节点的两套创新型晶圆缺陷检测系统和一种独特的再

KLA has a comprehensive portfolio of defect inspection and review systems for advanced chip manufacturing, including additional Surfscan ® unpatterned wafer inspection systems and …

2014年7月9日 · KLA-Tencor推出四款新的系统——2920系列、Puma 9850、Surfscan SP5和eDR-7110——为16nm及以下的集成电路研发与生产提供更先进的缺陷检测与检查能力。

透过强化的电浆扫描光源技术以及全新的pixel•point™ 和 nano•cell™设计感知技术，2950和2955电浆扫描检测测仪配有卓越的灵敏度，能在各种制程层别、材料类型与制程堆叠中捕捉 …

For 40 years our broadband plasma (BBP) patterned wafer inspectors have been at the forefront of defect discovery for the semiconductor industry. Introduced in 1984, the KLA 2020 was the …

2022年12月9日 · 半导体量检测设备是第四大制程设备环节，诞生大公司KLA。量检测设备的市场 规模小于刻蚀、薄膜沉积设备、光刻机，但大于清洗设备、CMP、离子注入、 Track、电镀等 …

2016年7月15日 · 两款宽波段等离子光学检测仪可在大约1小时内提供完整的晶圆检测，允许采集晶圆级和批次级缺陷数据，藉此全面理解和迅速调试复杂的工艺问题。 在3900系列和2930系列 …

与kla检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的kla特定应用的使用，并 通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。 392x、