Reticle Manufacturing - KLA
KLA’s portfolio of reticle inspection, metrology and data analytics systems help blank, reticle and IC manufacturers identify reticle defects and pattern placement errors, thereby reducing yield risk.
KLA-Tencor™ Announces First Shipment of LMS IPRO5 Next …
2011年6月7日 · The next-generation system, the LMS IPRO5, is designed to support the stringent precision and repeatability requirements for pattern placement metrology of reticles supporting …
KLA-Tencor推出五款用于7nm以下IC制造的图案成型控制系统
2017年9月14日 · ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7和5D Analyzer X1是KLA-Tencor独特的5D图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工 …
光学测量系统 - LMS IPRO series - KLA Corporation - 晶圆用 / 用 …
采用 KLA专利的模型量测算法,LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差， 为IC制造厂提供全面表征信息，减少由光罩引起的的器件叠对误差。 应用 …
产品 A - Z - KLA
查看KLA的A到Z产品词汇表，包括用于芯片，光罩，封装，复合半导体和HDD制造的检测，计量和数据分析系统。
KLA-Tencor Introduces Key Systems for 5D ... - KLA Corporation
WaferSight PWG, LMS IPRO6 and K-T Analyzer 9.0 are part of KLA-Tencor's comprehensive 5D patterning control solution, which also includes overlay, films, critical dimension and device …
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即时发布 - KLA
ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 是KLA-Tencor 独特的 5D 图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工艺实测，线宽
Optical measurement system - LMS IPRO series - KLA Corporation …
Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, …
光学測定システム - LMS IPRO series - KLA Corporation - ウェ …
LMS IPRO7は、KLA独自のモデルベース計測アルゴリズムを使用して、ターゲットと複数のオンデバイスパターンフィーチャーの両方のパターン配置エラーを高精度で測定し、ICファブに …
KLA-Tencor提供5D图案成型控制解决方案的关键系统-电子工程专辑
2014年8月29日 · KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSight PWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6光罩图案位置测量系统和K-T Analyzer 9.0先进数据分析系统。 这三种新产品支 …
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