Reticle Manufacturing - KLA
Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, enabling characterization and reduction of reticle-related contributions to …
光学测量系统 - LMS IPRO series - KLA Corporation - 晶圆用 / 用 …
采用 KLA专利的模型量测算法,LMS IPRO7可以高精度地测量目标和多个器件上图案器件上多个特征图案定位误差， 为IC制造厂提供全面表征信息，减少由光罩引起的的器件叠对误差。 应用 光罩认证，出厂光罩质量检查，光罩写入仪认证和监控，光罩工艺监控，晶圆图案化控制 相关产品 LMS IPRO6: 用于10nm设计节点的光罩量测系统，能够测量标准定位标记和器件上图形特征。 LMS IPRO4: 用于32nm / 28nm设计节点的光罩测量系统。 LMS IPRO4在行业内独具灵活的4寸 …
Products A to Z - KLA
View KLA's A to Z product listing of inspection, metrology and data analytic systems for chip, reticle, packaging, compound semi and HDD manufacturing.
Optical measurement system - LMS IPRO series - KLA …
Using KLA’s proprietary model-based metrology algorithm, the LMS IPRO7 measures pattern placement error for both targets and multiple on-device pattern features with high accuracy, enabling characterization and reduction of reticle-related contributions to …
KLA-Tencor推出五款用于7nm以下IC制造的图案成型控制系统
2017年9月14日 · ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7和5D Analyzer X1是KLA-Tencor独特的5D图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工艺实测，线宽和器件轮廓测量，光刻和图案成型模拟，以及发现关键易失效点的系统。
Evaluation of KLA-Tencor LMS IPRO5 beta system for 22nm node ...
2011年10月13日 · LMS IPRO5 beta system evaluation is part of the CDUR32 project, funded by the German Federal Ministry of Education and Research. A major improvement to previous LMS IPRO generations is the new laser illumination system, which significantly improves optical resolution and contrast (especially on EUV substrates).
- [PDF]
即时发布 - KLA
ATL、SpectraFilm F1、Teron 640e、LMS IPRO7 和5D Analyzer X1 是KLA-Tencor 独特的 5D 图案成型控制解决方案™的一部分，它还包括用于图案化晶圆形貌测量，工艺实测，线宽
光学測定システム - LMS IPRO series - KLA Corporation - ウェ …
LMS IPRO7は、KLA独自のモデルベース計測アルゴリズムを使用して、ターゲットと複数のオンデバイスパターンフィーチャーの両方のパターン配置エラーを高精度で測定し、ICファブにおけるデバイスオーバーレイ誤差へのレチクル関連の寄与を特性化し、低減することを可能にします。 用途 レチクル認定、出荷レチクル品質チェック、マスクライター認定およびモニタリング、レチクルプロセスモニタリング、ウェーハパターニングコントロール 関連製品 LMS …
KLA-Tencor提供5D图案成型控制解决方案的关键系统-电子工程专辑
2014年8月29日 · KLA-Tencor公司日前宣布推出WaferSight PWG已图案晶圆几何形状测量系统、LMS IPRO6光罩图案位置测量系统和K-T Analyzer 9.0先进数据分析系统。 这三种新产品支持KLA-Tencor独特的 5D图案成型控制解决方案，此方案着重于解决图案成型工艺控制上的五个主要问 …
74881m by KLA Corporation - Issuu
The DUV laser illumination paired with a 0.8 N.A. long working distance objective for the next-generation LMS IPRO provides a 2x resolution enhancement, as predicted by the Rayleigh equation...