Canon has achieved miniaturization at lower power consumption and lower cost with nanoimprint lithography (NIL), a new technology that is an alternative to conventional lithography technology. By enabling inexpensive production of patterns of 15nm or smaller, NIL is poised to revolutionize the semiconductor industry.

2023年9月14日 · キヤノンは、従来の露光技術に代わる新たな技術、ナノインプリントリソグラフィ（以下、NIL）で低消費電力かつ低コストで微細化を実現。15nm以下の微細な回路パターンを安価に製造できるため、半導体業界に革命を起こす技術と期待されています。

TOKYO, September 26, 2024—Canon Inc. announced today that it will ship its most advanced lithography platform, the FPA-1200NZ2C nanoimprint lithography (NIL) system for semiconductor manufacturing, to the Texas Institute for Electronics (TIE), a Texas-based semiconductor consortium, on September 26, 2024.

nil 技术是 铠侠公司 与佳能合作研发的光刻技术。其工作原理是以机械复制品为基础，利用印刷技术和微电子制造技术相结合，采用电子束刻蚀技术，避免了光的衍射。

2023年10月19日 · 佳能宣布将一款采用纳米压印光刻（NIL）技术的半导体制造设备推向市场，型号为FPA-1200NZ2C。该设备的NIL 技术可实现最小线宽 14 nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的5 nm节点。

2025年1月5日 · 日本大廠佳能（Canon）於9月26日宣佈，首度出貨奈米壓印微影設備（Nanoimprint Lithography, NIL）給美國「德州電子研究所」。 該設備據稱可生產5奈米製程晶片，並且經過改良後，將可進一步用於生產2奈米製程晶片。

2023年11月16日 · Canon（佳能）近期推出了 NIL（奈米壓印微影）技術，透過壓印方式減去傳統微影技術的大量曝光時間，可達成較當前 EUV 曝光機十分之一的生產成本和耗能，本文深入討論 NIL 技術的原理，以及未來在半導體產業尤其是記憶體（包含 NAND Flash 和 DRAM）產業的可能 ...

2024年10月1日 · Canon became the first in the world to commercialize a semiconductor manufacturing system that uses NIL technology, which forms circuit patterns in a different method from conventional projection exposure technology, when it released the FPA-1200NZ2C on October 13, 2023.

2023年10月16日 · 挑戰 ASML，日本半導體設備大廠 Canon 宣布開賣採用「奈米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）」技術的微影設備，可用來生產 5 奈米（nm）晶片，且經過改良，將可進一步用來生產 2nm 晶片。

2024年9 月，佳能推出了首款商用版技术，该技术有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片制造工艺。 这项技术被称为 纳米压印光刻 (NIL) ，能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，从而使逻辑芯片能够与目前量产的英特尔、AMD和Nvidia处理器相媲美。 NIL 系统的优势可能会挑战目前主导先进芯片制造的 1.5 亿美元机器—— 极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。 如果佳能的预测正确，其机器最终将以极低的成本提供 EUV 质量的芯片。 该公司的方法与EUV系统完全不同，后者由荷 …