等离子体化学气相沉积 - 百度百科
等离子体化学气相沉积（ plasma chemical vapor deposition）简称PCVD，是一种用等离子体激活反应气体,促进在基体表面或近表面空间进行化学反应,生成固态膜的技术。 等离子体化学气相 …
Plasma-enhanced chemical vapor deposition - Wikipedia
Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is a chemical vapor deposition process used to deposit thin films from a gas state (vapor) to a solid state on a substrate. Chemical …
什么是物理化学气相沉积 (PCVD)？薄膜应用的混合解决方案
PCVD 是一种混合薄膜沉积技术，融合了物理和化学过程。 它首先对源材料进行物理气化（类似于 PVD），然后通过化学反应（类似于 CVD）将材料沉积到基底上。
薄膜沉积设备解析——PECVD/LPCVD/ALD设备的原理和应用 - 知乎
化学气相沉积 (CVD) 是指通过气体混合的化学反应在硅片表面沉积一层固体膜的工艺，根据反应条件（压强、前驱体）的不同又分为常压CVD（APCVD）、低压CVD（LPCVD）、等离子体增 …
Lpcvd、Pecvd 和 Icpcvd 工艺的比较与应用分析 - Kintek Solution
LPCVD、PECVD 和 ICPCVD 是三种常用的化学气相沉积 (CVD) 技术，每种技术都有其独特的材料沉积方法、设备规格和工艺条件。 这些技术在各行各业都发挥着举足轻重的作用，尤其是 …
PCVD: A technique suitable for large-scale fabrication of …
This paper reviews the 'state of the art' of plasma activated chemical vapor deposition (PCVD) as a manufacturing technique for high-quality optical fibers. It includes a compilation of the …
十分钟读懂PECVD - 知乎
PECVD技术是在低气压下，利用低温等离子体在工艺腔体的阴极上（即样品放置的托盘）产生辉光放电，利用辉光放电（或另加发热体）使样品升温到预定的温度，然后通入适量的工艺气体， …
等离子体增强化学气相沉积_百度百科
等离子体增强化学气相沉积（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD）技术是一种在沉积腔室利用辉光放电使其电离后在衬底上进行化学反应沉积的半导体薄膜材料制备和其 …
PCVD技术与TCVD技术相比 - 知乎
PCVD 之所以能够在较低温度下进行，是因为在 等离子体化学气相沉积 的情况下，不是靠气体的温度使气体激发、离解，而是等离子体中的电子的能量。
Pecvd 和 Hdpcvd 有什么区别？薄膜沉积的关键见解
PECVD（等离子体增强化学气相沉积）和 HDPCVD（高密度等离子体化学气相沉积）是 CVD 的先进变体，可以解决其中的一些局限性。 PECVD 使用等离子体来增强化学反应，因此加工温 …