与光学邻近效应校正类似，插入亚分辨率辅助图形也分为基于经验规则的辅助图形（rule-based SRAF）和基于计算模型的辅助图形（model-based SRAF）。 插入在稀疏的线条中间的亚分辨率辅助图形也称散射条（Scattering Bar，SB）。

CTM（Continuous Transmission Mask）技术是一种新的迭代生成参考图的方法，可以提取和放置比传统SRAF引导图（SGM）精度更高的SRAF。 然而，迭代计算会运行时间会很长，使得CTM在全芯片OPC中不实用。

2024年11月15日 · Model-based Optical Proximity Correction (OPC) with Sub-Resolution Assist Feature (SRAF) generation is a critical standard practice for compensating lithography distortions in the fabrication of integrated circuits at advanced technology nodes. Typical model-based OPC and SRAF algorithms involve the selection of user-controlled rule parameters.

2009年3月1日 · Sub-resolution assist features (SRAFs) are a common addition to low-k1 masks to improve process window for isolated features. Traditional SRAF placement, which...

Sub-resolution assistant feature (SRAF) is applied to enhance the process window of isolated and semi-isolated features by taking advantage of the optical interference between the main features and the assistant features. SRAF is an essential technique for advanced immersion lithography.

How to apply machine learning technology in OPC for smart SRAF generation and placement to balance the performance and runtime? Newron SRAF method utilizes supervised machine learning technique under Tensor flow framework. Tensor flow: An open source machine learning library for research and production by Google.

次分辨率辅助图形 (sub-resolutionassistantfeature,sraf)是被放置在稀疏设计图形周围的细小图形，使稀疏图形在光学的角度上看像密集图形，有助于改善稀疏图形在焦深工艺窗口边缘的图像对比度。 在曝光时，它们只对光线起散射作用，而不会被曝在光刻胶上形成图形。 快速准确确定能提高稀疏图形的工艺窗口又不会被曝出来的sraf类型，是opc建模收集数据时的一个重要参数。 请参阅图4，图4所示为表征sraf和主图形常用的参数。 sraf图形类型常用三个参数来描述：sraf的 …

Sub-resolution assist features (SRAFs) are a common addition to low-k1 masks to improve process window for isolated features. Traditional SRAF placement,...

CTM（Continuous Transmission Mask）技术是一种新的迭代生成参考图的方法，可以提取和放置比传统SRAF引导图（SGM）精度更高的SRAF。 然而，迭代计算会运行时间会很长，使得CTM在全芯片OPC中不实用。

2023年2月3日 · 1.本发明涉及半导体光刻技术领域，特别是涉及一种带sraf的opc修正方法。 2.随着超大规模集成电路 (ulsi，ultra large scale integration)的飞速发展，集成电路制造工艺变得越来越复杂和精细，其中光刻技术是集成电路制造工艺发展的驱动力，也是最为复杂的技术之一。 光刻即通过光刻机将掩模版上的集成电路的设计图形转移到硅片上的重要手段。