与光学邻近效应校正类似，插入亚分辨率辅助图形也分为基于经验规则的辅助图形（rule-based SRAF）和基于计算模型的辅助图形（model-based SRAF）。 插入在稀疏的线条中间的亚分辨率辅助图形也称散射条（Scattering Bar，SB）。

芯天成基于规则的辅助图形工具EsseRBAF（RBAF，Rule-based Assist Features），能够高效的为工业级全芯片版图开发全面、精确的亚分辨率辅助图形，使芯片制造在光刻工艺中获得更大的工艺窗口、更稳定的晶圆成像和更优异的产品品质。 亚分辨率辅助图形是光学临近修正在先进技术节点中的重要组成部分。 芯片制造商在芯片版图中专门生成低于光刻系统分辨率的辅助图形，来帮助目标区域在不同工艺条件下拥有优异的光强对比度，最终获得符合标准的稳健图形。 支持先 …

“芯天成”基于规则的辅助图形工具 EsseRBAF （RBAF，Rule-based Assist Feature），能够高效的为工业级全芯片版图开发全面、精确的亚分辨率辅助图形，使 芯片制造 在 光刻工艺 中获得 更大的工艺窗口 、 更稳定的晶圆成像 和 更高质量的芯片制造。 01、 生成芯片金属层亚分辨率散射条； 02、 生成芯片通孔层亚分辨率辅助图形； 03、 定制化亚分辨率辅助图形模板； 04、 复杂环境的辅助图形嵌入。 01、 支持正向 AF (SRAF)和反向 AF (SRIF)； 02、 支持复杂几何环境的 …

2016年12月14日 · Further introducing sub-resolution assist features (SRAF) and/or sub-resolution inverse features (SRIF) can successfully yield the design of robust focus metrology targets that ensure printability on the wafer. The focus-induced pattern shifts can be accurately measured by standard wafer metrology tools such as CD-SEM and overlay metrology tools.

2023年10月26日 · “芯天成”基于规则的辅助图形工具 EsseRBAF （RBAF，Rule-based Assist Feature），能够高效的为工业级全芯片版图开发全面、精确的亚分辨率辅助图形，使芯片制造在光刻工艺中获得 更大的工艺窗口 、 更稳定的晶圆成像 和 更高质量的芯片制造。 应用场景. 产品功能. 产品优势. 通过高效的生成亚分辨率辅助图形， EsseRBAF 能够解决现代芯片设计中的诸多挑战， 提高芯片的性能和良品率。 未来，随着芯片设计复杂度的不断提高，EsseRBAF有望成为芯 …

Sub-resolution assistant feature (SRAF) is applied to enhance the process window of isolated and semi-isolated features by taking advantage of the optical interference between the main features and the assistant features. SRAF is an essential technique for advanced immersion lithography.

2017年8月31日 · Using accurate model-based SRAFs as training data, classification models based on logistic regression (LGR) and support vector machine are calibrated for SRAF predictions. Moreover, the probability maximum prediction is proposed to generate manufacturing-friendly SRAFs with a greedy simplification scheme.

CTM（Continuous Transmission Mask）技术是一种新的迭代生成参考图的方法，可以提取和放置比传统SRAF引导图（SGM）精度更高的SRAF。 然而，迭代计算会运行时间会很长，使得CTM在全芯片OPC中不实用。

基于经验来确定辅助图形的尺寸和放置的位置（placement rules） [1]，这种辅助图形加入的方法称为基于经验的辅助图形，即ruleS-based SRAF。 在90nm节点时，通过建立一些图形插入规则来实现OPC数据处理时吧辅助图形加入到原版图中。 规则确定了辅助线条的宽度，在周期等于多少时插入第一个辅助线条，周期多少时插入第二个辅助线条，等等。 辅助图形的尺寸和放置的位置（placement rules）是通过实验来确定的。 使用一块特殊设计的测试掩模，该 掩模 上有各种尺 …

In this paper, the genetic algorithm (GA) with improved selection method, which is highly efficient in multi-parameter optimization, is combined with lithography model and Calibre OPCVerify tool to determine the SRAF rule. A much shorter rule setup cycle is achieved by using GA, with a better performance in process window enhancement.