Deposition NT333™ Series | Products and Service(products)
NT333™ is TEL’s first semi-batch chamber for ALD (Atomic Layer Deposition). It offers thin film thickness control at the atomic level while providing exceptional film quality and high productivity due to employment of the spatial ALD method versus more conventional time …
Products - Tokyo Electron Ltd.
TEL's first semi-batch ALD (atomic layer deposition) system for 300mm wafers. Employing original deposition technique, the system achieves excellent film thickness control and deposition as well as uniform film quality in high aspect ratio structures.
成膜 NT333™シリーズ | 製品・サービス（製品） | 東京エレクト …
TEL初のセミバッチ式成膜装置NT333™は、従来方式のALDに利用されてきた時間分割式とは異なる独自の成膜手法により、高い品質と生産性を実現しました。 ウェーハは1ステージ上に6枚搭載され、原料ガスの吸着と反応空間を遮蔽ガスにより分離する独自の機構により、ステージが1回転することで1回のALDサイクルが完結します。 最適なガス供給・空間を形成しながら同時に回転数を高めることで高いスループットを実現し、最先端プロセスの量産に貢献しています …
半导体设备入门（7）--薄膜设备之ALD - 知乎 - 知乎专栏
国际与国内的ald公司介绍. 国际的大厂： asm, tel, lam, amat 。asm和tel 占据ald的80%的市场。 国内的大厂: 微导纳米、北方华创、拓荆科技、中微公司、理想晶延。微导纳米作为专门生产ald的设备公司上市，其ald主要还是在光伏领域，在先进半导体内占公司的营收还是 ...
ALD/ALE2024 | ニュースルーム | 東京エレクトロン株式会社
2024年8月2日 · 東京エレクトロン(tel)がスポンサーを務めるald/ale 2024が、8/4-7にフィンランドのヘルシンキで開催されます。 このカンファレンスでは、半導体デバイスの微細化に重要な技術である、原子層堆積法(ALD)と原子層エッチング法(ALE)に関する最新の研究発表が ...
TEL Tokyo Electron Deposition NT333™ Series Deposition Tool
NT333™ is TEL’s first semi-batch chamber for ALD (Atomic Layer Deposition). It offers thin film thickness control at the atomic level while providing exceptional film quality and high productivity due to employment of the spatial ALD method versus more conventional time …
揭秘顶尖科技前沿_2---TEL半导体设备全览-安徽锐芯智研半导体科 …
2024年8月11日 · 是一种300mm单晶圆金属CVD系统，用于使用TiCl形成高阶跃覆盖率的Ti/TiN薄膜+4.基于TEL经过行业验证的TriasTM平台，自推出以来，该系统提供低接触电阻薄膜工艺，同时减少各种设备的接触泄漏
Tokyo Electron Ltd. (TEL) TELINDY Plus ALD HighK. Furnace Exhaust Connection Poi - Top Connection - Qty1 Cooling Water Connection Point - Bottom Connection - Qty1 3.2.1- Gas Spec, Gas Distribution System: IGS Type - IGS 1.125"W-seal rail-mount - Qty1 IGS Maker - Fujikin - …
Products and Services(all products) | Tokyo Electron Ltd.
TEL's first semi-batch ALD (atomic layer deposition) system for 300mm wafers. Employing original deposition technique, the system achieves excellent film thickness control and deposition as well as uniform film quality in high aspect ratio structures.
ALD/ALE2024 | News Room | Tokyo Electron Ltd.
2024年8月2日 · Tokyo Electron (TEL) is proud to be a Platinum Sponsor of ALD/ALE2024, which will be held from August 4-7 in Helsinki, Finland. This conference will feature presentations on the latest research on the science and technology of atomic layer deposition (ALD) and atomic layer etching (ALE), which are key technologies for scaling of semiconductor ...